Προστασία μεταλλικών κατασκευών από τη διάβρωση και τους ρύπους
Πρόβλημα προς επίλυση
Στη σελίδα Επισκευή οξειδωμένων (σκουριασμένων) σιδερένιων και χαλύβδινων κατασκευών αναλύθηκε ο τρόπος επισκευής και προστασίας ήδη οξειδωμένων σιδερένιων και χαλύβδινων κατασκευών.
Εδώ θα παρουσιάσουμε τον τρόπο προστασίας γενικότερα όλων των μεταλλικών κατασκευών από τη διάβρωση και διάφορα είδη ρύπων, παίρνοντας σαν δεδομένο ότι η μεταλλική κατασκευή είναι σε καλή κατάσταση και χρειάζεται μόνο προληπτική συντήρηση και όχι διορθωτική επέμβαση ή επισκευή.
Η λύση που προτείνει η τεχνολογία Winwet
Αν η επιφάνεια είναι άβαφη και είναι σιδερένια ή χαλύβδινη, συνιστούμε το αστάρωμα με αντισκωριακό αστάρι FERACRYL και στη συνέχεια βαφή της επιφάνειας με την επίσης αντισκωριακή βαφή RUSTBLOCKER ή με τη βαφή SMALTOFIX αν για αισθητικούς λόγους θέλουμε να έχουμε τέλεια κάλυψη της επιφάνειας. Στη συνέχεια εφαρμόζουμε την υδρόφοβη ακρυλική ρητίνη AQUABLOCK πάνω από τη βαφή.
Αν η επιφάνεια είναι βαμμένη ή είναι από άλλο μέταλλο και όχι χάλυβα ή σίδηρο, τότε η προστασία περιορίζεται στην εφαρμογή της ρητίνης AQUABLOCK. Η ρητίνη αυτή προστατεύει το μέταλλο από όλες τις αιτίες χημικής οξείδωσης και κάνει επίσης την επιφάνεια αυτοπλενόμενη, αφού οι ρύποι (καυσαέριο, χώματα, αλμύρα κτλ.) δεν εισχωρούν πλέον στους πόρους του μετάλλου ή της βαφής που το καλύπτει. Έτσι, η επιφάνεια παραμένει από αισθητική άποψη σε τέλεια κατάσταση, ενώ παράλληλα καταργείται η διαβρωτική δράση των ρύπων, αφού αυτοί δεν εισέρχονται μέσα στους πόρους της επιφάνειας.
Περιοδική συντήρηση: Η μόνη συντήρηση που συνιστάται είναι η επαναληπτική εφαρμογή του AQUABLOCK όποτε υπάρχει η υπόνοια ότι έχει χαθεί η υδροφοβία του, δηλαδή όταν το νερό δεν κάνει πλέον “μπίλιες” πάνω στη μεταλλική άβαφη ή βαμμένη επιφάνεια. Αυτό μπορεί να συμβεί π.χ. σε 5 χρόνια από την αρχική εφαρμογή του υλικού.
Τέλος, για την προστασία κάθε μεταλλικής κατασκευής από τη διάβρωση λόγω ηλεκτρόλυσης αλλά και από τη χημική οξείδωσή της συνιστούμε την εφαρμογή της τεχνολογίας καθοδικής προστασίας STOPCOR.